產(chǎn)品名稱(chēng)：HORIBA堀場(chǎng)光發(fā)射光譜蝕刻終點(diǎn)監(jiān)測(cè)儀

HORIBA堀場(chǎng)光發(fā)射光譜蝕刻終點(diǎn)監(jiān)測(cè)儀EV-140C

該發(fā)射分析型終點(diǎn)監(jiān)測(cè)儀用于等離子體半導(dǎo)體薄膜工藝中的終點(diǎn)檢測(cè)或等離子體條件控制。新開(kāi)發(fā)的 Rapture Intensity 算法通過(guò)捕捉微弱的信號(hào)變化來(lái)實(shí)現(xiàn)終點(diǎn)檢測(cè)。捕捉細(xì)微發(fā)射變化的能力顯著提高了靈敏度。增強(qiáng)的抗干擾度確保了在惡劣環(huán)境下全天候生產(chǎn)線的高度穩(wěn)定運(yùn)行。

• 開(kāi)口率為 F/2 的亮光柵

使用 HORIBA Jobin Yvon 制造的直徑為 70 毫米的像差校正凹面光柵可組建明場(chǎng)光學(xué)系統(tǒng)。凹面光柵本身的聚光能力可構(gòu)建比 Czerny-Turner 分光鏡更亮的簡(jiǎn)單光學(xué)系統(tǒng)，且能降低鏡子和其他反射表面引起的反射損失。

• 背照式 CCD 線傳感器提供 2,048 條高靈敏度和高分辨率通道

背照式 CCD 實(shí)現(xiàn)了高量子效率，確保從紫外到可見(jiàn)光的寬光譜范圍內(nèi)的穩(wěn)定光譜。紫外區(qū)的高靈敏度測(cè)量可以在受干擾影響較小的波長(zhǎng)范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)終點(diǎn)檢測(cè)。

• 用于先進(jìn)制程控制的 Sigma-P 軟件

該軟件執(zhí)行制程控制所需的各種步驟，從等離子體性能分析到測(cè)量數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)庫(kù)創(chuàng)建和制造設(shè)備的遠(yuǎn)程控制。
測(cè)量配方的可編程結(jié)構(gòu)允許設(shè)置多個(gè)檢測(cè)條件和順序處理。這使得該監(jiān)測(cè)儀不僅可用于終點(diǎn)應(yīng)用，還可用于**的等離子體條件監(jiān)測(cè)。

• 配方設(shè)置示例

這是一種先進(jìn)的配方設(shè)置，可對(duì)異常等離子體條件發(fā)出警告，并使用兩個(gè)波長(zhǎng)之間的比值進(jìn)行終點(diǎn)測(cè)量。

• 重處理功能

獲得光譜數(shù)據(jù)后，通過(guò)應(yīng)用新的配方條件，可以根據(jù)需要重復(fù)執(zhí)行配方優(yōu)化或終點(diǎn)檢測(cè)模擬。
標(biāo)配一個(gè)用于識(shí)別等離子體發(fā)射種的數(shù)據(jù)庫(kù)。
光譜數(shù)據(jù)可以轉(zhuǎn)換成時(shí)間進(jìn)程圖，或者可以使用屏幕布局、操作波形、與參考數(shù)據(jù)的比較計(jì)算波形以及其他信息在屏幕上自由顯示。

• 用于分析時(shí)間進(jìn)程圖的 Auto Pattern（自動(dòng)圖案）軟件

從大量含有噪聲的光譜數(shù)據(jù)中發(fā)現(xiàn)細(xì)微的圖案變化是一項(xiàng)艱巨的挑戰(zhàn)。自動(dòng)圖案軟件自動(dòng)發(fā)現(xiàn)特征圖案變化，以確定適合的終點(diǎn)波長(zhǎng)。

• 強(qiáng)大的終點(diǎn)算法

通過(guò)使用用戶指定的波長(zhǎng)對(duì)波長(zhǎng)計(jì)算波形和濾波，可以準(zhǔn)確檢測(cè)終點(diǎn)。新開(kāi)發(fā)的 Rapture Intensity 算法允許持續(xù)監(jiān)測(cè)兩條直線相交角度的變化，這兩條直線近似兩個(gè)指定的部分。這可以確保無(wú)延遲地將變化點(diǎn)與噪聲適當(dāng)區(qū)分開(kāi)，且準(zhǔn)確地檢測(cè)到極小的信號(hào)變化，例如具有小開(kāi)口面積的終點(diǎn)。

• 弱信號(hào)波形重處理示例

小開(kāi)口面積的蝕刻監(jiān)測(cè)（<0.2%）。頻率濾波器處理原始信號(hào)中的噪聲后，（上升（A+B+ C）/下降（D+E+F）曲線之比（黑線）的差分信號(hào)（粉線）可實(shí)現(xiàn)對(duì)終點(diǎn)的準(zhǔn)確檢測(cè)。

• 配方設(shè)計(jì)器是一款自動(dòng)同步分析結(jié)果的配方生成工具（可選軟件）

配方設(shè)計(jì)器是自動(dòng)圖案分析工具的擴(kuò)展版本。用戶只需按照屏幕上的指令進(jìn)行分析和模擬，就可以生成適合的 Rapture Intensity 算法。該算法可以輕松構(gòu)建至真正的配方中。這可以極大減輕微弱和復(fù)雜發(fā)射種的終點(diǎn)或因工藝條件變化或類(lèi)似情況而無(wú)法檢測(cè)到的終點(diǎn)的配方生成負(fù)擔(dān)。

• 配方設(shè)計(jì)器設(shè)置示例

步驟 1：波長(zhǎng)變化圖案的自動(dòng)提取
步驟 2：使用兩條直線逼近來(lái)識(shí)別變化點(diǎn)
步驟 3：由 Rapture Intensity 執(zhí)行的 EDP 仿真和完整算法可以導(dǎo)出并構(gòu)建至 Sigma-P 軟件中

• 先進(jìn)統(tǒng)計(jì)制程：配方反饋

統(tǒng)計(jì)制程編輯器能從許多不同的角度分析日志數(shù)據(jù)，有助于提高異常分析和成品率。分析的結(jié)果可以反饋給測(cè)量。