產(chǎn)品名稱：HORIBA堀場光發(fā)射光譜蝕刻終點監(jiān)測儀

HORIBA堀場光發(fā)射光譜蝕刻終點監(jiān)測儀EV-140C

該發(fā)射分析型終點監(jiān)測儀用于等離子體半導(dǎo)體薄膜工藝中的終點檢測或等離子體條件控制。新開發(fā)的 Rapture Intensity 算法通過捕捉微弱的信號變化來實現(xiàn)終點檢測。捕捉細微發(fā)射變化的能力顯著提高了靈敏度。增強的抗干擾度確保了在惡劣環(huán)境下全天候生產(chǎn)線的高度穩(wěn)定運行。

• 開口率為 F/2 的亮光柵

使用 HORIBA Jobin Yvon 制造的直徑為 70 毫米的像差校正凹面光柵可組建明場光學(xué)系統(tǒng)。凹面光柵本身的聚光能力可構(gòu)建比 Czerny-Turner 分光鏡更亮的簡單光學(xué)系統(tǒng)，且能降低鏡子和其他反射表面引起的反射損失。

• 背照式 CCD 線傳感器提供 2,048 條高靈敏度和高分辨率通道

背照式 CCD 實現(xiàn)了高量子效率，確保從紫外到可見光的寬光譜范圍內(nèi)的穩(wěn)定光譜。紫外區(qū)的高靈敏度測量可以在受干擾影響較小的波長范圍內(nèi)實現(xiàn)終點檢測。

• 用于先進制程控制的 Sigma-P 軟件

該軟件執(zhí)行制程控制所需的各種步驟，從等離子體性能分析到測量數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)庫創(chuàng)建和制造設(shè)備的遠程控制。
測量配方的可編程結(jié)構(gòu)允許設(shè)置多個檢測條件和順序處理。這使得該監(jiān)測儀不僅可用于終點應(yīng)用，還可用于**的等離子體條件監(jiān)測。

• 配方設(shè)置示例

這是一種先進的配方設(shè)置，可對異常等離子體條件發(fā)出警告，并使用兩個波長之間的比值進行終點測量。

• 重處理功能

獲得光譜數(shù)據(jù)后，通過應(yīng)用新的配方條件，可以根據(jù)需要重復(fù)執(zhí)行配方優(yōu)化或終點檢測模擬。
標(biāo)配一個用于識別等離子體發(fā)射種的數(shù)據(jù)庫。
光譜數(shù)據(jù)可以轉(zhuǎn)換成時間進程圖，或者可以使用屏幕布局、操作波形、與參考數(shù)據(jù)的比較計算波形以及其他信息在屏幕上自由顯示。

• 用于分析時間進程圖的 Auto Pattern（自動圖案）軟件

從大量含有噪聲的光譜數(shù)據(jù)中發(fā)現(xiàn)細微的圖案變化是一項艱巨的挑戰(zhàn)。自動圖案軟件自動發(fā)現(xiàn)特征圖案變化，以確定適合的終點波長。

• 強大的終點算法

通過使用用戶指定的波長對波長計算波形和濾波，可以準(zhǔn)確檢測終點。新開發(fā)的 Rapture Intensity 算法允許持續(xù)監(jiān)測兩條直線相交角度的變化，這兩條直線近似兩個指定的部分。這可以確保無延遲地將變化點與噪聲適當(dāng)區(qū)分開，且準(zhǔn)確地檢測到極小的信號變化，例如具有小開口面積的終點。

• 弱信號波形重處理示例

小開口面積的蝕刻監(jiān)測（<0.2%）。頻率濾波器處理原始信號中的噪聲后，（上升（A+B+ C）/下降（D+E+F）曲線之比（黑線）的差分信號（粉線）可實現(xiàn)對終點的準(zhǔn)確檢測。

• 配方設(shè)計器是一款自動同步分析結(jié)果的配方生成工具（可選軟件）

配方設(shè)計器是自動圖案分析工具的擴展版本。用戶只需按照屏幕上的指令進行分析和模擬，就可以生成適合的 Rapture Intensity 算法。該算法可以輕松構(gòu)建至真正的配方中。這可以極大減輕微弱和復(fù)雜發(fā)射種的終點或因工藝條件變化或類似情況而無法檢測到的終點的配方生成負擔(dān)。

• 配方設(shè)計器設(shè)置示例

步驟 1：波長變化圖案的自動提取
步驟 2：使用兩條直線逼近來識別變化點
步驟 3：由 Rapture Intensity 執(zhí)行的 EDP 仿真和完整算法可以導(dǎo)出并構(gòu)建至 Sigma-P 軟件中

• 先進統(tǒng)計制程：配方反饋

統(tǒng)計制程編輯器能從許多不同的角度分析日志數(shù)據(jù)，有助于提高異常分析和成品率。分析的結(jié)果可以反饋給測量。